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温度控制在芯片生产过程中的重要性
来源: | 作者:同洲维普 | 发布时间: 2022-11-30 | 717 次浏览 | 分享到:
随着国家对半导体行业的投入力度越来越大，国内半导体企业的数量也越来越多，无论是生产型企业还是科研、高校、研究所对半导体生产设备的需求量也越来越大。从晶圆的生长，一直到芯片成品的检测，温控设备始终贯穿于整个芯片的制作过程中。

晶圆制造涉及的工艺流程与环节包括：单晶炉制造硅片、通过氧化扩散炉进行氧化扩散、清洗机清洗、CMP设备进行抛光、离子注入、  通过溅射靶材进行沉积、刻蚀机进行刻蚀、光刻机进行光刻 ，这里需要使用温控设备的包括：单晶炉、刻蚀机、光刻机、等离子冲洗、快速退火炉、气相沉积（PVDCVD）、分子束外延、划片机、键合机、低温探针台等。对单晶炉来说，合适的温度对于晶体的生长至关重要，要有足够的冷却水来对单晶炉炉体及加热电极、真空系统进行降温。刻蚀机同样也需要冷却，无论是湿法刻蚀还是干法刻蚀，温度如果控制不当就会出现不完全刻蚀、过刻蚀、或者钻蚀等问题，导致工艺流程失败。在干法刻蚀中，无论是等离子体还是离子束刻蚀都需要对真空系统、反应腔体进行温度控制，抵消电极射频线圈产生的热量。类似的温控需求还有很多，如：溅射靶材、电子枪、研磨料、电磁铁、氦压缩机、主轴等等，这些部位必须要有足够的冷却水通过，才能带走热量，保证设备的正常使用。

北京同洲维普科技有限公司是一家生产温控设备的制造商， 公司科研队伍由国内知名技术专家带队，通过不断创新，攻克多项技术难关，开发了多项跨行业技术应用系统。



公司的主要产品及研究项目有：实验室冷水机、低温循环机、激光冷水机、工业冷水机、双温冷水机、金属浴、无油空压机等；并可承接工业生产线制冷、科研制冷配套系统等项目的设计施工。



公司生产的产品具有外形美观、结构合理、操作简单、控温精准、接口丰富、检测报警功能完备、配置齐全的特点，能够满足各行业的需求。并且通过了CE、ROSH等国际认证，出口至欧美以及东南亚等地区。

公司通过多年技术创新，解决了冷水机在冬季极低环境温度制冷、夏季极高环境温度制冷、冰点制冷、远程控制以及空压机高效除水、空压机自动排水等技术问题，能够为全国各地提供优质的产品和服务。

在半导体领域，也适配了大量的芯片制造设备，在国内外知名的半导体公司以及科研院所均有设备在服役。并且能够根据设备的特殊需求进行特殊的处理，如：某些进口品牌的MOCVD，要求冷却水中不能含铜含铝，而且要使用去离子水，这时候就需要对板换等冷水机内部管件进行特殊处理，保证符合MOCVD的使用要求。根据客户场地的不同，也分为水冷、风冷、分体等不同的使用需求，以保证客户对环境无尘的苛刻要求。经过多年在半导体行业的摸索，形成了自己的产品体系，已经能够适应不同的产品需求。产品的质量、稳定性得到了客户的一致肯定。

随着国家把半导体行业放在一个关系到国家命运的战略高度上，大量的进口设备必然国产化，大到光刻机，小到温控设备，这就给国内的设备制造商带来了很好的发展机遇。温控设备虽小，却关系着产品的优劣，北京同洲维普也必将继续践行工匠精神，对产品做到精益求精，响应党和人民的号召，为实现中国梦而贡献自己的力量。